دانلود کتاب Lecture Notes on Principles of Plasma Processing

ترجمه فارسی توضیحات (ترجمه ماشینی)

یادداشت های سخنرانی در مورد اصول پردازش پلاسما

پردازش پلاسما در نیمه هادی ها یک زمینه بین رشته ای است که به دانش فیزیک پلاسما و مهندسی شیمی نیاز دارد. این دو نویسنده در هر یک از این زمینه ها متخصص هستند و همکاری آنها منجر به ادغام این زمینه ها با یک اصطلاح مشترک می شود. مفاهیم پایه پلاسما بدون درد برای کسانی که در مقطع کارشناسی الکترومغناطیسی خوانده اند اما قبلاً در معرض پلاسما قرار نگرفته اند، معرفی می شود. مشتقات تفصیلی غیر ضروری حذف می شوند. با این حال، خواننده به درک عمیقی از مفاهیمی مانند ساختار غلاف‌ها که در طراحی و عملکرد راکتورهای پردازش پلاسما مهم هستند، هدایت می‌شود. فیزیکدانانی که به پلاسماهای با دمای پایین عادت ندارند با سینتیک شیمیایی، علوم سطح و طیف‌سنجی مولکولی آشنا می‌شوند. این مطالب برای یک دوره تحصیلات تکمیلی نه هفته ای متراکم شده است، اما کافی است تا خواننده را در مورد مشکلات فعلی مانند اتصالات مسی، دی الکتریک های کم و پک بالا و آسیب اکسید به روز کند. دانش‌آموزان از طرح‌بندی به سبک وب با تصاویر رنگی فراوان در مقابل متن، با فضای کافی برای یادداشت‌ها قدردانی خواهند کرد. سی دی همراه شامل یک کپی از کتاب است که می تواند با استفاده از یک تابع جستجو نمایه شود، و می توان آن را برای مشاهده دقیق تر نمودارها، روی مانیتور بزرگ کرد. نمونه تکالیف و مسائل امتحانی نیز در سی دی موجود است.

این کتاب کوتاه برای کارگران جدید در صنعت نیمه هادی که می خواهند با حداقل تلاش به سرعت بالا بروند ایده آل است. همچنین برای دانشجویان مهندسی شیمی که در حال مطالعه پردازش پلاسما مواد هستند مناسب است. مهندسان، فیزیکدانان و تکنسین‌هایی که وارد صنعت نیمه‌رسانا می‌شوند، می‌خواهند مروری سریع بر استفاده از پلاسما در صنعت داشته باشند.

Lecture Notes on Principles of Plasma Processing

Plasma processing of semiconductors is an interdisciplinary field requiring knowledge of both plasma physics and chemical engineering. The two authors are experts in each of these fields, and their collaboration results in the merging of these fields with a common terminology. Basic plasma concepts are introduced painlessly to those who have studied undergraduate electromagnetics but have had no previous exposure to plasmas. Unnecessarily detailed derivations are omitted; yet the reader is led to understand in some depth those concepts, such as the structure of sheaths, that are important in the design and operation of plasma processing reactors. Physicists not accustomed to low-temperature plasmas are introduced to chemical kinetics, surface science, and molecular spectroscopy. The material has been condensed to suit a nine-week graduate course, but it is sufficient to bring the reader up to date on current problems such as copper interconnects, low-k and high-k dielectrics, and oxide damage. Students will appreciate the web-style layout with ample color illustrations opposite the text, with ample room for notes. The included CD contains a copy of the book which can be indexed using a Search function, and which can be enlarged on a monitor for a closer look at the diagrams. Sample homework and exam problems can also be found on the CD.

This short book is ideal for new workers in the semiconductor industry who want to be brought up to speed with minimum effort. It is also suitable for Chemical Engineering students studying plasma processing of materials; Engineers, physicists, and technicians entering the semiconductor industry who want a quick overview of the use of plasmas in the industry.