دانلود کتاب Scientific Wet Process Technology for Innovative LSI/FPD Manufacturing
49,000 تومان
فناوری فرآیند مرطوب علمی برای تولید نوآورانه LSI/FPD
| نوع کالا | کتاب الکترونیکی |
|---|---|
| ناشر | CRC Press |
| تعداد صفحه | 386 |
| حجم فایل | 19 مگابایت |
| کد کتاب | 0849335434,9780849335433,9781420026863 |
| نوبت چاپ | 1 |
| نویسنده | Tadahiro Ohmi |
|---|---|
| زبان | انگلیسی |
| فرمت | |
| سال انتشار | 2005 |
جدول کد تخفیف
| تعداد کتاب | درصد تخفیف | قیمت کتاب |
| 1 | بدون تخفیف | 25,000 تومان |
| 2 | 20 درصد | 20,000 تومان |
| 3 الی 5 | 25 درصد | 18,750 تومان |
| 6 الی 10 | 30 درصد | 17,500 تومان |
| 11 الی 20 | 35 درصد | 16,250 تومان |
| 21 الی 30 | 40 درصد | 15,000 تومان |
| 31 الی 40 | 45 درصد | 13,750 تومان |
| 41 الی 50 | 50 درصد | 12,500 تومان |
| 51 الی 70 | 55 درصد | 11,250 تومان |
| 71 الی 100 | 60 درصد | 10,000 تومان |
| 101 الی 150 | 65 درصد | 8,750 تومان |
| 151 الی 200 | 70 درصد | 7,500 تومان |
| 201 الی 300 | 75 درصد | 6,250 تومان |
| 301 الی 500 | 80 درصد | 5,000 تومان |
| 501 الی 1000 | 85 درصد | 3,750 تومان |
| 1001 الی 10000 | 90 درصد | 2,500 تومان |
ترجمه فارسی توضیحات (ترجمه ماشینی)
فناوری فرآیند مرطوب علمی برای تولید نوآورانه LSI/FPD
Ohmi (مرکز هچری ایجاد صنعت جدید، توهوکو، ژاپن) 10 فصل را ارائه می دهد که فناوری های فرآیند مرطوب و مبتنی بر واکنش رادیکال را برای تولید نیمه هادی های یکپارچه (LSI) در مقیاس بزرگ و نمایشگرهای صفحه تخت (FPD) معرفی می کند. Ohmi ابتدا مبحث الکترونیک شیمیایی سطح را در بررسی نیمه هادی ها معرفی می کند. فصول زیر به اصول تمیز کردن مرطوب دستگاه های نیمه هادی، فناوری تمیز کردن مرطوب با کارایی بالا، اچ کردن SiO2، حکاکی سیلیکونی، فناوری کنترل ترکیب شیمیایی، فناوری جداسازی مقاوم در برابر بخار مرطوب، فناوری آنتی استاتیک، فناوری احیای زباله های شیمیایی و آب فوق خالص و پیشرفته می پردازد. سیستم های تامین مواد شیمیایی مایع برای تاسیسات بدون نوسان.
Ohmi (New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku U., Japan) presents 10 chapters that introduce radical-reaction-based and wet process technologies for manufacturing large-scale integrated (LSI) semiconductors and flat panel displays (FPD). Ohmi first introduces the topic of surface chemical electronics at the semiconductor survey. The following chapters address the principles of semiconductor device wet cleaning, high-performance wet cleaning technology, etching of SiO2, silicon etching, chemical composition control technology, wet vapor resist stripping technology, antistatic technology, chemical waste reclamation technology, and advanced ultrapure water and liquid chemical supply systems and materials for a fluctuation-free facility.
برای فرستادن دیدگاه، باید وارد شده باشید.
نقد و بررسیها
هنوز بررسیای ثبت نشده است.