دانلود کتاب Ulsi Technology
49,000 تومان
فناوری اولسی
| موضوع اصلی | ابزار |
|---|---|
| نوع کالا | کتاب الکترونیکی |
| ناشر | McGraw-Hill Inc.,US |
| تعداد صفحه | 751 |
| حجم فایل | 7 مگابایت |
| کد کتاب | 0070630623,9780070630628 |
| نویسنده | C. Y. Chang, S. M. Sze |
|---|---|
| زبان | انگلیسی |
| فرمت | DJVU |
| سال انتشار | 1996 |
جدول کد تخفیف
| تعداد کتاب | درصد تخفیف | قیمت کتاب |
| 1 | بدون تخفیف | 25,000 تومان |
| 2 | 20 درصد | 20,000 تومان |
| 3 الی 5 | 25 درصد | 18,750 تومان |
| 6 الی 10 | 30 درصد | 17,500 تومان |
| 11 الی 20 | 35 درصد | 16,250 تومان |
| 21 الی 30 | 40 درصد | 15,000 تومان |
| 31 الی 40 | 45 درصد | 13,750 تومان |
| 41 الی 50 | 50 درصد | 12,500 تومان |
| 51 الی 70 | 55 درصد | 11,250 تومان |
| 71 الی 100 | 60 درصد | 10,000 تومان |
| 101 الی 150 | 65 درصد | 8,750 تومان |
| 151 الی 200 | 70 درصد | 7,500 تومان |
| 201 الی 300 | 75 درصد | 6,250 تومان |
| 301 الی 500 | 80 درصد | 5,000 تومان |
| 501 الی 1000 | 85 درصد | 3,750 تومان |
| 1001 الی 10000 | 90 درصد | 2,500 تومان |
ترجمه فارسی توضیحات (ترجمه ماشینی)
فناوری اولسی
این متن از سنت متن پیشگام بسیار موفق Sze در فناوری VLSI پیروی می کند و با آخرین پیشرفت ها در زمینه ساخت تراشه های میکروالکترونیک به روز می شود. از آنجایی که تراشههای کامپیوتری پایههای الکترونیک مدرن هستند، این موضوعات برای نسل بعدی فناوریهای USLI ضروری هستند و اجازه میدهند ترانزیستورهای بیشتری روی یک تراشه بستهبندی شوند. متخصصان صنعت، متخصص در موضوعاتی مانند اپیتاکسی با فرآیند دمای پایین، فرآیندهای حرارتی سریع، حکاکی یون راکتیو پلاسما با آسیب کم، لیتوگرافی خط ظریف، فناوری تمیز کردن، فناوری اتاق تمیز، بستهبندی و قابلیت اطمینان، در هر فصل مشارکت دارند.
This text follows the tradition of Sze’s highly successful pioneering text on VLSI technology and is updated with the latest advances in the field of microelectronic chip fabrication. Since computer chips are foundations of modern electronics, these topics are essential for the next generation of USLI technologies, allowing more transistors to be packaged on a single chip. Contributing to each chapter are industry experts, specializing in topics such as epitaxy with low temperature process, rapid thermal processes, low damage plasma reactive ion etching, fine line litography, cleaning technology, clean room technology, packing and reliability.

نقد و بررسیها
هنوز بررسیای ثبت نشده است.